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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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Raman Scattering of Refractory Metal Titanium Silicide
难熔金属硅化物的喇曼散射

Keywords: Titanium silicide,Raman scattering,Rapid thermal annealing
硅化物
,喇曼散射,退火,金属

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Abstract:

用电子束蒸发方法在10~(-7)托真空中使单晶硅上蒸上一层Ti膜后,于N_2中进行从500-1000℃10秒钟的快速热退火,由激光喇曼光谱结合薄层电阻测量和转靶X射线衍射研究分析了TiSi_2的形成.退火温度高于680℃时,观察到207和244cm~(-1)波数处的两个TiSi_2的特征喇曼峰,当退火温度为580℃时,只有270,297和3ncm~(-1)的三个喇曼峰,这些可能是钛的氧化物和不包括TiSi的钛硅化物.

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