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ISSN: 2333-9721
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氟在多晶硅栅中迁移特性的分析与模拟

Keywords: 多晶硅栅,,MOS器件,,迁移特性

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在深入分析氟在多晶硅栅中迁移特性的基础上,建立了氟在多晶硅栅中的迁移方程.采用有限差分法,模拟了氟在多晶硅栅中的分布,模拟结果与实验符合得很好.给出了氟在多晶硅中的发射系数e约为6E-2/s,氟在晶粒间界的扩散系数Db=9E-12exp(-0.895/kT)和氟在Poly-Si/SiO2界面的吸收系数S1与温度的变化关系.

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