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ISSN: 2333-9721
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用气相色谱法测定半导体工艺中固、液、气相砷、磷及化合物的新方法

Keywords: 半导体工艺,气相色谱法,测定

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Abstract:

本文研究了一种快速、灵敏、可靠的高温氢还原—气相色谱分析方法,样品不需预处理,使气相色谱仪能直接测定固、液、气相样品中砷、磷及其化合物的含量.砷、磷的检测限分别为0.01mg/L和0.003mg/L.相对偏差分别为6.2%和8.6%,测定范围为10-5~10-11.并与经典方法进行对比,结果一致.

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