%0 Journal Article
%T 用气相色谱法测定半导体工艺中固、液、气相砷、磷及化合物的新方法
%A 闻瑞梅
%J 半导体学报
%D 1997
%I 
%X 本文研究了一种快速、灵敏、可靠的高温氢还原—气相色谱分析方法，样品不需预处理，使气相色谱仪能直接测定固、液、气相样品中砷、磷及其化合物的含量．砷、磷的检测限分别为0．01mg／L和0．003mg／L．相对偏差分别为6．2％和8．6％，测定范围为10－5～10－11．并与经典方法进行对比，结果一致．
%K 半导体工艺
%K 气相色谱法
%K 测定
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=ABB380F5687E3E07&yid=5370399DC954B911&vid=13553B2D12F347E8&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=0401E2DB1F51F8DE&eid=CB423C9A71560A74&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=7