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半导体学报 2002
采用二甲基肼为氮源进行GaNAs的金属有机化学气相沉积生长(英文)Keywords: GaNAs,金属有机化学气相沉积,杂质,沾污,高分辨X射线双晶衍射,二次离子质谱 Abstract: 采用 MOCVD方法 ,利用二甲基肼为氮源 ,进行了 Ga NAs材料的生长 .利用高分辨 X射线衍射与二次离子质谱测试方法确定了材料中氮的组分 .采用室温光致发光谱测量了样品的光学性质 .讨论了不同的镓源对 Ga NAs材料质量和其中的杂质含量的影响 ,结果证明三乙基镓在 Ga NAs的低温生长中比三甲基镓具有更大的优势 .采用三乙基镓生长的 Ga NAs中氮的含量达到 5 .6 88% .光致发光谱的峰值波长为 12 78.5 nm
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