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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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具有RHEED在线监控功能的超高真空CVD系统及3"硅片低温外延研究

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本文报道了自己研制的一台超高真空化学汽相淀积(UHV/CVD)系统,本底真空达1e-7Pa.该系统配有反射高能电子衍射仪,可对衬底表面清洁状况、外延层厚度等进行在线监控.利用该设备进行了硅低温外延实验,生长温度为780℃,得到了表面平整、缺陷密度低、界面杂质分布陡峭的薄外延层

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