%0 Journal Article
%T 具有RHEED在线监控功能的超高真空CVD系统及3＂硅片低温外延研究
%A 叶志镇
%A 曹青
%A 张侃
%A 赵炳辉
%A 李剑光
%A 阙端麟
%A 谢琪
%A 雷震霖
%J 半导体学报
%D 1996
%I 
%X 本文报道了自己研制的一台超高真空化学汽相淀积（ＵＨＶ／ＣＶＤ）系统，本底真空达１e－７Ｐａ．该系统配有反射高能电子衍射仪，可对衬底表面清洁状况、外延层厚度等进行在线监控．利用该设备进行了硅低温外延实验，生长温度为７８０℃，得到了表面平整、缺陷密度低、界面杂质分布陡峭的薄外延层
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=1401BE3863FC2FDE&yid=8A15F8B0AA0E5323&vid=BCA2697F357F2001&iid=59906B3B2830C2C5&sid=796A97DD793AE4A8&eid=073C3CF5F13F64FE&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0