全部 标题 作者 关键词 摘要
Full-Text Cite this paper Add to My Lib
<正> 众所周知,在热氧化时半导体中的杂质分布会有改变,受主杂质硼和镓也不例外.按照文献1] 给出的公式可以计算热氧化后硼和镓在硅中的浓度分布.所用公式是:
Full-Text
Contact Us
service@oalib.com
QQ:3279437679
WhatsApp +8615387084133