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本文提出了一种新的微图形加工方法——离子注入抗蚀技术.我们发现,当注入到二氧化硅中的离子剂量达到一定值时,只要采用适当的腐蚀方法,注入区的二氧化硅具有很好的抗蚀作用.此结果与文献所报道的离子注入增强腐蚀正好相反.本文研究了不同离子注入剂量、能量与二氧化硅腐蚀速率的关系.找到了较好的工艺条件,腐蚀出了清晰的图形,并对其抗蚀的原因进行了初步探讨.
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