|
半导体学报 1998
半导陶瓷的红外吸收谱和喇曼散射谱Abstract: ZrO2·SiO2·P2O5半导陶瓷是由ZrO2、SiO2和H3PO4用高温固相反应制成.它的傅里叶红外吸收谱是由ZrO2和SiO2的标准谱叠加而成.根据标准峰的位置分别计算出两种氧化物的四个基本声子能量.这些声子按照不同组合方式形成ZrO2·SiO2·P2O5半导陶瓷的全部傅里叶红外吸收峰.半导陶瓷的喇曼背向散射峰也是由这些基本声子组合而成.对比四角和单斜ZrO2的喇曼特征谱线看出,在未掺杂和用Y2O3或Nb2O5掺杂的半导陶瓷样品中,ZrO2的晶粒微结构分别属于单斜和四角对称晶系.
|