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Keywords: film,structure,laser scanning,chemical etch,microan spectrum薄膜,结构,复合薄膜,抗刻蚀性,溶胶凝胶法
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采用Sol-Gel工艺制备SiO2-TiO2复合薄膜,研究在不同温度下薄膜对HF缓冲溶液的刻蚀能力。薄膜经800℃热处理的刻速率是200℃热处理的1/1000倍,利用这种差异,在薄膜上用激光进行致密化处理,从而形成所需的图形。
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