Efficient WCA algorithm for 65-90 nm processes
65—90 nm技术节点的WCA模型和提取算法

在90 nm和65 nm技术节点，集成电路制造业的投资剧增而随机成品率却在下降低.为了提升随机成品率，带权关键面积的（WCA）计算和排序是关键.文中基于数学形态学提出了一种随机缺陷轮廓的WCA新模型，该模型不仅考虑了90 nm和65 nm工艺中缺陷在布线区域和空白区域的不同密度，而且也考虑了缺陷在粒径上的分布特性；同时还设计并实现了与新模型对应的WCA提取与排序算法，部分版图上的实验结果表明新WCA可以作为版图优化的代价函数，从而为随机缺陷的版图优化提供了精确依据.