%0 Journal Article
%T Efficient WCA algorithm for 65-90 nm processes<br>65—90 nm技术节点的WCA模型和提取算法
%A Wang Jun-Ping
%A Hao Yue
%A <br>王俊平
%A 郝跃
%J 物理学报
%D 2009
%I 
%X 在90 nm和65 nm技术节点，集成电路制造业的投资剧增而随机成品率却在下降低.为了提升随机成品率，带权关键面积的（WCA）计算和排序是关键.文中基于数学形态学提出了一种随机缺陷轮廓的WCA新模型，该模型不仅考虑了90 nm和65 nm工艺中缺陷在布线区域和空白区域的不同密度，而且也考虑了缺陷在粒径上的分布特性；同时还设计并实现了与新模型对应的WCA提取与排序算法，部分版图上的实验结果表明新WCA可以作为版图优化的代价函数，从而为随机缺陷的版图优化提供了精确依据.
%K 缺陷空间分布，
%K 缺陷粒径分布，
%K 关键面积，
%K 版图优化
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=103B41B1E0527536B7C85AFFD6A8CA75&yid=DE12191FBD62783C&vid=9FFCC7AF50CAEBF7&iid=B31275AF3241DB2D&sid=A2313DA25AD7C123&eid=CADC9FCFC58F9C6F&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0