Surface morphology of GaN bombarded by highly charged 126Xeq+ ions
高电荷态离子126Xeq+引起GaN表面形貌变化研究

用不同电荷态的126Xeq+离子（9≤q≤30）在室温下轰击GaN晶体表面，经原子力显微镜分析表明，当q>18，辐照区域由隆起转为显著的刻蚀.被轰击后的GaN晶体表面形貌主要取决于入射离子的电荷态.同时，样品表面形貌还与入射离子的剂量和入射角有关；在实验参数范围，与入射离子的初动能没有明显关系（180 keV≤Ek≤600 keV）.当入射离子的电荷态q=18，与样品表面法线成60°角倾斜入射和垂直表面入射时，样品的表面几乎没有变化，只是倾斜入射后有很微小的隆起；当q＜18时，样品表面膨胀隆起，粗糙度增强，倾斜入射时表面隆起比垂直入射时更明显，而且都有清晰的峰状分界区；当q＞18时，样品表面被蚀刻呈凹陷状，有明显的齿状刻痕，且侵蚀深度与离子剂量近似呈线性关系，倾斜入射时的刻蚀深度大于垂直入射时的刻蚀深度.