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物理学报 2009
Influence of duty ratio on the fabrication of a-C:H film on microshell
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Abstract:
采用低压等离子体化学气相沉积方法(LPPCVD),以反式二丁烯(T2B)和氢气(H2)为工作气体,利用间歇跳动模式在微球表面制备30 μm厚a-C:H涂层.利用原子力显微镜(AFM)和X射线照相技术对涂层表面形貌及壁厚均匀性进行表征,结果表明:随占空比减小,制备出的微球a-C:H薄膜表面粗糙度呈下降趋势,而壁厚均匀性随占空比的减小变化不明显;当占空比为1/5时,在直径为(280±50) μm 的聚乙烯醇-聚苯乙烯(PVA-PS)双层球表面制备出30 μm厚的a-C:H涂层,表面均方根粗糙度(RMS)低于30 nm;占空比为1/7时,不能维持微球的稳定跳动.