%0 Journal Article
%T Influence of duty ratio on the fabrication of a-C:H film on microshell<br>占空比对微球a-C:H薄膜制备的影响
%A Zhang Bao-Ling
%A He Zhi-Bing
%A Wu Wei-Dong
%A Liu Xing-Hua
%A Yang Xiang-Dong
%A <br>张宝玲
%A 何智兵
%A 吴卫东
%A 刘兴华
%A 杨向东
%J 物理学报
%D 2009
%I 
%X 采用低压等离子体化学气相沉积方法（LPPCVD）,以反式二丁烯（T2B）和氢气（H2）为工作气体,利用间歇跳动模式在微球表面制备30 μm厚a-C:H涂层.利用原子力显微镜（AFM）和X射线照相技术对涂层表面形貌及壁厚均匀性进行表征,结果表明：随占空比减小,制备出的微球a-C:H薄膜表面粗糙度呈下降趋势,而壁厚均匀性随占空比的减小变化不明显；当占空比为1/5时,在直径为（280±50） μm 的聚乙烯醇-聚苯乙烯（PVA-PS）双层球表面制备出30 μm厚的a-C:H涂层,表面均方根粗糙度（RMS）低于30 nm；占空比为1/7时，不能维持微球的稳定跳动.
%K 微球，
%K a-C:H薄膜，
%K 粗糙度，
%K 壁厚均匀性
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=2F093C060285987CDA155E1DDB8A0EA6&yid=DE12191FBD62783C&vid=9FFCC7AF50CAEBF7&iid=9CF7A0430CBB2DFD&sid=C719BA97EAFF32C9&eid=EF8A25085DC56873&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=1&reference_num=0