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物理学报 2009
X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the effect of thickness on the transformation temperature of NiTi alloy thin films
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Abstract:
采用X射线衍射和X射线光电子能谱实验手段对不同厚度的NiTi薄膜相变温度的变化进行了分析.结果表明在相同衬底温度和退火条件下，3?μm厚度的薄膜晶化温度高于18?μm厚度的薄膜.衬底温度越高，薄膜越易晶化，退火后薄膜奥氏体相转变温度As越低.薄膜的表面有TiO2氧化层形成，氧化层阻止了Ni原子渗出；膜与基片的界面存在Ti2O3和NiO.由于表面和界面氧化层的存在，不同厚度的薄膜内层的厚度也不同，因而薄膜越薄，Ni原子的含量就越高.Ni原子的含量的不同会影响薄膜的相变温度.
