%0 Journal Article
%T X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the effect of thickness on the transformation temperature of NiTi alloy thin films<br>NiTi合金薄膜厚度对相变温度影响的X射线光电子能谱分析
%A Li Yong-Hu
%A Liu Chang-Sheng
%A Meng Fan-Ling
%A Wang Yu-Ming
%A Zheng Wei-Tao
%A <br>李永华
%A 刘常升
%A 孟繁玲
%A 王煜明
%A 郑伟涛
%J 物理学报
%D 2009
%I 
%X 采用X射线衍射和X射线光电子能谱实验手段对不同厚度的NiTi薄膜相变温度的变化进行了分析.结果表明在相同衬底温度和退火条件下，3?μm厚度的薄膜晶化温度高于18?μm厚度的薄膜.衬底温度越高，薄膜越易晶化，退火后薄膜奥氏体相转变温度As越低.薄膜的表面有TiO2氧化层形成，氧化层阻止了Ni原子渗出；膜与基片的界面存在Ti2O3和NiO.由于表面和界面氧化层的存在，不同厚度的薄膜内层的厚度也不同，因而薄膜越薄，Ni原子的含量就越高.Ni原子的含量的不同会影响薄膜的相变温度.
%K NiTi合金薄膜，
%K X射线衍射，
%K 相变，
%K X射线光电子能谱
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=9B33362887523D357716A62D17A05590&yid=DE12191FBD62783C&vid=9FFCC7AF50CAEBF7&iid=E158A972A605785F&sid=31E6CF1A30237A27&eid=BBB74A7A5866BF0A&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0