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ISSN: 2333-9721
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物理学报  2010 

Fabrication of germanium inverse opal three-dimensional photonic crystal by low temperature plasma enhanced chemical vapour deposition techniques and optical properties
低温等离子体增强化学气相沉积法制备Ge反opal三维光子晶体及其光学性能

Keywords: germanium inverse opal photonic crystal,low temperature plasma enhanced chemical vapour deposition,macromolecule materials,photonic band gap
Ge反蛋白石(opal)光子晶体,
,低温等离子增强化学气相沉积,,高分子材料,,光子带隙

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Abstract:

通过溶剂蒸发对流自组装法制备SiO2三维有序胶体晶体模板,采用等离子体增强化学气相沉积法在200℃低温条件下填充高折射率材料Ge,获得了Ge反opal三维光子晶体.实现了低于GeH4热分解温度的低温填充.通过扫描电镜、X射线衍射仪和傅里叶变换显微红外光谱仪对Ge反opal的形貌、成分和光学性能进行了表征.结果表明:沉积得到无定型态Ge,退火后形成多晶Ge,Ge在SiO2微球空隙内填充致密均匀.Ge反opal的反射光谱有明显的光学反射峰,表现

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