%0 Journal Article
%T Fabrication of germanium inverse opal three-dimensional photonic crystal by low temperature plasma enhanced chemical vapour deposition techniques and optical properties<br>低温等离子体增强化学气相沉积法制备Ge反opal三维光子晶体及其光学性能
%A Li Yu-Jie
%A Xie Kai
%A Li Xiao-Dong
%A Xu Jing
%A Han Yu
%A Du Pan-Pan
%A <br>李宇杰
%A 谢凯
%A 李效东
%A 许静
%A 韩喻
%A 杜盼盼
%J 物理学报
%D 2010
%I 
%X 通过溶剂蒸发对流自组装法制备SiO2三维有序胶体晶体模板，采用等离子体增强化学气相沉积法在200℃低温条件下填充高折射率材料Ge，获得了Ge反opal三维光子晶体.实现了低于GeH4热分解温度的低温填充.通过扫描电镜、X射线衍射仪和傅里叶变换显微红外光谱仪对Ge反opal的形貌、成分和光学性能进行了表征.结果表明：沉积得到无定型态Ge，退火后形成多晶Ge，Ge在SiO2微球空隙内填充致密均匀.Ge反opal的反射光谱有明显的光学反射峰，表现
%K germanium inverse opal photonic crystal
%K low temperature plasma enhanced chemical vapour deposition
%K macromolecule materials
%K photonic band gap<br>Ge反蛋白石（opal）光子晶体，
%K 低温等离子增强化学气相沉积，
%K 高分子材料，
%K 光子带隙
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=2D76067B7B05BD6F2AF0827F2847E781&yid=140ECF96957D60B2&vid=6AC2A205FBB0EF23&iid=38B194292C032A66&sid=53594B54E4A91717&eid=B1F4011810AAA181&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=19