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ISSN: 2333-9721
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物理学报  2007 

The transport property of two dimensional electron gas in AlGaN/AlN/GaN structure
AlGaN/AlN/GaN结构中二维电子气的输运特性

Keywords: AlGaN/AlN/GaN structure,two dimensional electron gas,Shubnikov-de Haas oscillation,high electron mobility transistor
AlGaN/AlN/GaN结构
,二维电子气,Shubnikov-de,Haas振荡,高电子迁移率晶体管

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Abstract:

对使用金属有机物汽相沉积法生长的AlGaN/AlN/GaN结构进行的变温霍尔测量,测量结果指出在AlN/GaN界面处有二维电子气存在且迁移率和浓度在2K时分别达到了1.4×104cm2·V-1·s-1和9.3×1012cm-2,且在200K到2K范围内二维电子气的浓度基本不变,变磁场霍尔测量发现只有一种载流子(电子)参与导电.在2K温度下,观察到量子霍尔效应,Shubnikov-de Haas (SdH) 振荡在磁场约为3T时出现,证明了此结构呈现了典型的二维电子气行为.通过实验数据对二维电子气散射过程的半定量分析,推出量子散射时间为0.23ps,比以往报道的AlGaN/GaN结构中的散射时间长,说明引入AlN层可以有效减小合金散射,进一步的推断分析发现低温下以小角度散射占主导地位.

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