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ISSN: 2333-9721
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物理学报  2008 

The deformation mechanism of nanofilm with void under tensile loading: An atomistic simulation study
含圆孔纳米薄膜在拉伸加载下变形机理的原子级模拟研究

Keywords: nanofilm,mechanical property,dislocation,molecular static approach
纳米薄膜
,力学性质,位错,分子静力学

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Abstract:

采用分子静力学方法结合量子修正的 Sutton-Chen多体势研究了含圆孔的纳米薄膜在单向加载过程中的力学行为,并采用共近邻分析方法研究了薄膜的微结构演化过程.模拟结果表明:孔洞的引入显著地降低了纳米薄膜的杨氏模量和屈服应力;在拉伸过程中,孔洞的形状随着应变的增加逐渐由圆形变为椭圆形,最终孔洞闭合;纳米薄膜在进入塑性变形阶段后,薄膜内部出现原子的堆跺层错,这种层错结构的出现是肖克莱不全位错在薄膜内部沿着{111}面的112]方向运动的结果.

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