%0 Journal Article
%T The deformation mechanism of nanofilm with void under tensile loading: An atomistic simulation study<br>含圆孔纳米薄膜在拉伸加载下变形机理的原子级模拟研究
%A Zhang Yang
%A Zhang Jian-Hu
%A Wen Yu-Hua
%A Zhu Zi-Zhong
%A <br>张 杨
%A 张建华
%A 文玉华
%A 朱梓忠
%J 物理学报
%D 2008
%I 
%X 采用分子静力学方法结合量子修正的 Sutton-Chen多体势研究了含圆孔的纳米薄膜在单向加载过程中的力学行为,并采用共近邻分析方法研究了薄膜的微结构演化过程.模拟结果表明:孔洞的引入显著地降低了纳米薄膜的杨氏模量和屈服应力;在拉伸过程中,孔洞的形状随着应变的增加逐渐由圆形变为椭圆形,最终孔洞闭合;纳米薄膜在进入塑性变形阶段后,薄膜内部出现原子的堆跺层错,这种层错结构的出现是肖克莱不全位错在薄膜内部沿着{111}面的112]方向运动的结果.
%K nanofilm
%K mechanical property
%K dislocation
%K molecular static approach<br>纳米薄膜
%K 力学性质
%K 位错
%K 分子静力学
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=8124EAD7163B9A2CC58D1A93D6DBD06C&yid=67289AFF6305E306&vid=11B4E5CC8CDD3201&iid=708DD6B15D2464E8&sid=DF8C4F2DA94B56BC&eid=67B45790B47B5189&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0