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物理学报 2008
The study of ultraviolet properties of resistant-boat evaporated LaF3 films
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Abstract:
研究了沉积温度对热舟蒸发氟化镧薄膜结构和光学性能的影响，沉积温度从200℃上升到350℃，间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率和反射率光谱曲线，并在此基础上进行了光学损耗、光学常数以及带隙和截止波长的计算.采用表面轮廓仪进行了表面形貌和表面粗糙度的标定，采用X射线衍射(XRD)方法测量了不同沉积温度下样品的微结构.发现在短波长波段，随着沉积温度的升高，光学损耗增加，晶粒尺寸增大，表面粗糙度略有增加.不过散射损耗在光学损耗中所占比例均很小，光学损耗的增加主要由吸收损耗引起.随着沉积温度的升高，折射
