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物理学报 2009
An optical emission spectroscopy study on the high rate growth of microcrystalline silicon films
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Abstract:
采用PR650光谱光度计对高速沉积微晶硅薄膜的生长过程进行了在线监测研究，并对所对应的材料进行了Raman谱和红外吸收谱(FTIR)的测试.结果表明：能反映材料晶化程度的I［SiH*］/I［Hβ*］比值在沉积时间为100 s之内有下降的趋势，且反应气体总流量Tfl越小下降趋势越明显，这与拉曼散射光谱对材料的结构测试结果一致；沉积5 min时I
