Influence of deposition parameter on chemical structure and moisture resistant properties for SiNx films deposited by DC pulse magnetron sputtering
沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响

Keywords: SiNx，,磁控溅射，,微观结构，,阻透性能

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Abstract:

利用直流脉冲磁控溅射法在室温下制备无氢SiNx薄膜.通过傅里叶变换红外光谱、台阶仪、紫外—可见分光光度计、接触角测量仪、透湿测试仪等表征技术，分析了N2流量、Si靶溅射功率等实验参数对SiNx薄膜成分、结构、及阻透性能、透光性能、接触角等性能的影响.研究结果表明，Si靶溅射功率固定时，在低N2流量条件下，或N2流量固定时，在高Si靶溅射功率条件下，制备的SiN

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