%0 Journal Article %T Influence of deposition parameter on chemical structure and moisture resistant properties for SiNx films deposited by DC pulse magnetron sputtering
沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响 %A Ding Wan-Yu %A Wang Hua-Lin %A Miao Zhuang %A Zhang Jun-Ji %A Chai Wei-Ping %A
丁万昱 %A 王华林 %A 苗壮 %A 张俊计 %A 柴卫平 %J 物理学报 %D 2009 %I %X 利用直流脉冲磁控溅射法在室温下制备无氢SiNx薄膜.通过傅里叶变换红外光谱、台阶仪、紫外—可见分光光度计、接触角测量仪、透湿测试仪等表征技术,分析了N2流量、Si靶溅射功率等实验参数对SiNx薄膜成分、结构、及阻透性能、透光性能、接触角等性能的影响.研究结果表明,Si靶溅射功率固定时,在低N2流量条件下,或N2流量固定时,在高Si靶溅射功率条件下,制备的SiN %K SiNx, %K 磁控溅射, %K 微观结构, %K 阻透性能 %U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=C85C62FDE9978929C48CC7F0E3BA34FA&yid=DE12191FBD62783C&vid=9FFCC7AF50CAEBF7&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=4BEA9A781F286FC6&eid=B40AD8FE6FA88DE9&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0