%0 Journal Article
%T Influence of deposition parameter on chemical structure and moisture resistant properties for SiNx films deposited by DC pulse magnetron sputtering<br>沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响
%A Ding Wan-Yu
%A Wang Hua-Lin
%A Miao Zhuang
%A Zhang Jun-Ji
%A Chai Wei-Ping
%A <br>丁万昱
%A 王华林
%A 苗壮
%A 张俊计
%A 柴卫平
%J 物理学报
%D 2009
%I 
%X 利用直流脉冲磁控溅射法在室温下制备无氢SiNx薄膜.通过傅里叶变换红外光谱、台阶仪、紫外—可见分光光度计、接触角测量仪、透湿测试仪等表征技术，分析了N2流量、Si靶溅射功率等实验参数对SiNx薄膜成分、结构、及阻透性能、透光性能、接触角等性能的影响.研究结果表明，Si靶溅射功率固定时，在低N2流量条件下，或N2流量固定时，在高Si靶溅射功率条件下，制备的SiN
%K SiNx，
%K 磁控溅射，
%K 微观结构，
%K 阻透性能
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=C85C62FDE9978929C48CC7F0E3BA34FA&yid=DE12191FBD62783C&vid=9FFCC7AF50CAEBF7&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=4BEA9A781F286FC6&eid=B40AD8FE6FA88DE9&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0