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物理学报 2005
Studies on C22 radical by optical emission spectroscopy in an induc tively-coupled CF44/CH44 plasma
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Abstract:
利用强度标定的发射光谱法，研究了感应耦合CF44/CH44等离 子体中空间基团的 相对密度随宏观条件（射频输入功率、气压和流量比）的变化情况. 研究表明：在所研究的 碳氟/碳氢混合气体放电等离子体中除了具有丰富的CF，CF22，CH，H和F等活 性基团外 ，还同时存在着C22基团，其相对密度随着放电功率的提高而增加；随着气压 的上升呈 现倒“U”型的变化. C22随流量比R（R=［CH4
