%0 Journal Article
%T Studies on C22 radical by optical emission spectroscopy in an induc tively-coupled CF44/CH44 plasma<br>使用发射光谱对感应耦合CF4/CH4等离子体中C2基团形成机理的研究
%A Huang Song
%A Xin Yu
%A NingZhao-Yuan
%A <br>黄 松
%A 辛 煜
%A 宁兆元
%J 物理学报
%D 2005
%I 
%X 利用强度标定的发射光谱法，研究了感应耦合CF44/CH44等离 子体中空间基团的 相对密度随宏观条件（射频输入功率、气压和流量比）的变化情况. 研究表明：在所研究的 碳氟/碳氢混合气体放电等离子体中除了具有丰富的CF，CF22，CH，H和F等活 性基团外 ，还同时存在着C22基团，其相对密度随着放电功率的提高而增加；随着气压 的上升呈 现倒“U”型的变化. C22随流量比R（R=［CH4
%K optical emission spectroscopy
%K inductively_coupled plasma
%K C22 radical<br>发射光谱，
%K 感应耦合等离子体，
%K C22基团
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=00D97B107139D564&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=318E4CC20AED4940&iid=E158A972A605785F&sid=4C9B788AD3F48EA4&eid=B221F15A486F30C1&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=26