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物理学报 2007
Effects of annealing on the photoluminescence of He ion implanted sapphire after 230 MeV Pb ion irradiation
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Abstract:
利用高能离子研究了110 keV 的He+注入Al2O3单晶及随后230 MeV的208Pb27+辐照并在不同温度条件下退火样品的光致发光的特性. 从测试结果可以清楚地看到在375 nm,390 nm,413 nm 和450 nm 出现了强烈的发光峰. 经过600 K退火2 h后测试结果显示,390 nm发光峰增强剧烈,而别的发光峰显示不明显. 在900 K退火条件下,390 nm的发光峰开始减弱相反在510 nm出现了较强的发光峰,到1100 K退火完毕后390 nm的发光峰完全消失,而510 nm的发光峰相对增强. 从辐照样品的FTIR谱中看到,波数在460—510 cm-1间的吸收是振动模式,经过离子辐照后,吸收带展宽,随着辐照量的增大,Al2O3振动吸收峰消失,说明Al2O3振动模式被完全破坏. 1000—1300 cm-1之间为Al-O-Al桥氧的伸缩振动模式,辐照后吸收带向高波数方向移动. 退火后的FTIR谱变化不大.