Structural and optical properties of MgxZn1-xO thin films deposited by radio frequency magnetron sputtering
射频磁控溅射法生长MgxZn1-xO薄膜的结构和光学特性

用射频磁控溅射法在80℃的衬底温度下制备出MgxZn1-xO(0≤x ≤030)薄膜.x射线 衍射(XRD)结果表明，MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构， 没有形成任何显著 的MgO分离相，MgxZn1-xO薄膜的择优取向平行于与衬底垂直的 c轴；c轴晶格常数随着Mg含量的增加逐渐减小.在MgxZn1-xO薄膜的光透射谱中出现 锐利的吸收边，由透 射谱估算出MgxZn1-xO薄膜的带隙宽度由332eV(x=0)线性地 增加到396eV(x=030).