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ISSN: 2333-9721
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物理学报  2006 

Effect of annealing on optical properties of MgxZn1-xO thin films deposited at low temperature
退火温度对低温生长MgxZn1－xO薄膜光学性质的影响

Keywords: MgxZn1-xO films,RF magnetron sputtering,annealing
MgxZn1-xO薄膜，,射频磁控溅射，,退火

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Abstract:

用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0.16)薄膜，用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示，MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构，并且具有沿c轴的择优取向；随着退火温度的升高，(002)XRD峰强度、平均晶粒尺寸和紫外PL峰强度增大，(002)XRD峰半高宽(F

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