%0 Journal Article
%T Effect of annealing on optical properties of MgxZn1-xO thin films deposited at low temperature<br>退火温度对低温生长MgxZn1－xO薄膜光学性质的影响
%A Zhang Xi-Jian
%A Ma Hong-Lei
%A Wang Qing-Pu
%A Ma Jin
%A Zong Fu-Jian
%A Xiao Hong-Di
%A Ji Feng
%A <br>张锡健
%A 马洪磊
%A 王卿璞
%A 马 瑾
%A 宗福建
%A 肖洪地
%A 计 峰
%J 物理学报
%D 2006
%I 
%X 用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0.16)薄膜，用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示，MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构，并且具有沿c轴的择优取向；随着退火温度的升高，(002)XRD峰强度、平均晶粒尺寸和紫外PL峰强度增大，(002)XRD峰半高宽(F
%K MgxZn1-xO films
%K RF magnetron sputtering
%K annealing<br>MgxZn1-xO薄膜，
%K 射频磁控溅射，
%K 退火
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=A48D14F8E7ACC9A4&yid=37904DC365DD7266&vid=E514EE58E0E50ECF&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=B40AD8FE6FA88DE9&eid=78976D931AD1540F&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=17