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Keywords: silicon carbide,trapping effect,MESFET,deep level trap,interface state碳化硅,,陷阱效应,,金属-半导体场效应晶体管,,深能级陷阱,,界面态
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针对4H-SiC射频大功率MESFET,建立了一个解析的陷阱效应模型,该模型采用简化参数描述方法,并结合自热效应分析,从理论上完善了SiC MESFET大信号直流I-V特性的解析模型,且避免了数值方法模拟陷阱效应的巨大计算量.
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