INFRARED ANALYSIS OF BOND CONFIGURATION FOR THE a-C:F: H FILMS DEPOSITED AT VARIABLE CHF3/CH4 FLOW RATIOS
不同CHF3/CH4流量比下沉积a-C∶F∶H薄膜键结构的红外分析

通过微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积方法使用CH4/CHF3源气体制备a-C∶F∶H薄膜.红外结果表明,a-C∶F∶H薄膜随着流量比R=CHF3]/CHF3]+CH4])的变化存在结构上的演变,R<64%时,薄膜主要是以类金刚石(DLC)特征的结构为主;当R>64%时,薄膜表现为一个类聚四氟乙烯(PTFE)的结构,结构单体主要为CF2.同时这种结构上的变化影响着薄膜