%0 Journal Article
%T INFRARED ANALYSIS OF BOND CONFIGURATION FOR THE a-C:F: H FILMS DEPOSITED AT VARIABLE CHF3/CH4 FLOW RATIOS<br>不同CHF3/CH4流量比下沉积a-C∶F∶H薄膜键结构的红外分析
%A XIN YU
%A NING ZHAO-YUAN
%A GAN ZHAO-QIANG
%A LU XIN-HUA
%A FANG LIANG
%A CHENG SHAN-HUA
%A <br>辛煜
%A 宁兆元
%A 甘肇强
%A 陆新华
%A 方亮
%A 程珊华
%J 物理学报
%D 2001
%I 
%X 通过微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积方法使用CH4/CHF3源气体制备a-C∶F∶H薄膜.红外结果表明,a-C∶F∶H薄膜随着流量比R=CHF3]/CHF3]+CH4])的变化存在结构上的演变,R<64%时,薄膜主要是以类金刚石(DLC)特征的结构为主;当R>64%时,薄膜表现为一个类聚四氟乙烯(PTFE)的结构,结构单体主要为CF2.同时这种结构上的变化影响着薄膜
%K a-C∶F∶H薄膜
%K 傅里叶变换红外光谱
%K 紫外可见光谱
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=EFCCD51D9691AB06&yid=14E7EF987E4155E6&vid=771152D1ADC1C0EB&iid=59906B3B2830C2C5&sid=92D0C7A2A7397A94&eid=CD5F0AB9FFF40F52&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=4&reference_num=26