|
|
物理学报 2004
Structural analysis of fluorinated diamond-like carbon films by Raman and Fourier transform infrared absorption spectroscopy
|
Abstract:
以高纯石墨作靶、CHF3 Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备了介电常数在 1 77左右的氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 .拉曼光谱表明 ,源气体中CHF3相对流量、射频功率和工作气压的增加都会引起薄膜的D峰与G峰强度之比ID IG 减小 ,薄膜中链式 (烯烃 )结构比例的上升 .红外吸收光谱分析表明薄膜的主体骨架仍为芳香环式结构 .薄膜的性质如光学带隙和介电常数等不仅与氟含量有关 ,还与碳氟原子间的耦合形式和碳氟键的分布密切相关 .
