A STUDY OF NO.2 SERIES ZrO2(Y2O3) THIN FILM BY SLOW POSITRONS BEAM
第2系列ZrO2(Y2O3)薄膜的慢正电子研究

用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压，衬底加热300℃，纯Ar气氛下制备的用Y2O3稳定的ZrO2薄膜材料(简称YSZ薄膜)，发现了YSZ薄膜在不同 深度处的缺陷分布情况，退火温度对YSZ薄膜缺陷有影响.简要讨论了致密、优质YSZ薄膜的 制备方法.