%0 Journal Article
%T A STUDY OF NO.2 SERIES ZrO2(Y2O3) THIN FILM BY SLOW POSITRONS BEAM<br>第2系列ZrO2(Y2O3)薄膜的慢正电子研究
%A ZOU LIU-JUAN
%A XIA FENG
%A ZOU DAO-WEN
%A WENG HUI-MIN
%A HUANG QIAN-FENG
%A ZHOU XIAN-YI
%A HAN RONG-DIAN
%A <br>邹柳娟
%A 夏 风
%A 邹道文
%A 翁惠民
%A 黄千峰
%A 周先意
%A 韩荣典
%J 物理学报
%D 2000
%I 
%X 用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压，衬底加热300℃，纯Ar气氛下制备的用Y2O3稳定的ZrO2薄膜材料(简称YSZ薄膜)，发现了YSZ薄膜在不同 深度处的缺陷分布情况，退火温度对YSZ薄膜缺陷有影响.简要讨论了致密、优质YSZ薄膜的 制备方法.
%K slow positron beam
%K ZrO2(Y2O3) thin film
%K surfa ce defects<br>慢正电子束，
%K ZrO2(Y2O3)薄膜，
%K 表面缺陷
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=1124D5C885BB76E3&yid=9806D0D4EAA9BED3&vid=2A3781E88AB1776F&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=B3079604173FE132&eid=B7AB8E33F0FC19ED&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0