FABRICATION AND SPECTROSCOPIC STUDIES OF a-Si/SiO2 SUPERLATTICES
非晶Si/SiO2超晶格的制备及其光谱研究

用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了非晶Si/SiO2超晶格.利用透射电子显微镜 (TEM) 和X射线衍射技术对其结构进行了分析，结果表明，超晶格中Si层大部分区域为非晶相，局域微区呈现有序结构，其厚度由1.8—3.2nm变化，SiO2层厚度为4.0nm.并采用多种光谱测量技术，如吸收光谱、光致发光光谱和Raman光谱技术，对该结构的光学性质进行了系统研究.结果表明，随纳米Si层厚度的减小，光学吸收边以及光致荧光峰发生明显蓝移，Raman峰发生展宽，即观测到明显的量