%0 Journal Article
%T FABRICATION AND SPECTROSCOPIC STUDIES OF a-Si/SiO2 SUPERLATTICES<br>非晶Si/SiO2超晶格的制备及其光谱研究
%A LIU NING-NING
%A SUN JIA-MING
%A PAN SHAO-HUA
%A CHEN ZHENG-HAO
%A WANG RONG-PING
%A SHI WEN-SHENG
%A WANG XIAO-GUANG
%A <br>刘宁宁
%A 孙甲明
%A 潘少华
%A 陈正豪
%A 王荣平
%A 师文生
%A 王晓光
%J 物理学报
%D 2000
%I 
%X 用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了非晶Si/SiO2超晶格.利用透射电子显微镜 (TEM) 和X射线衍射技术对其结构进行了分析，结果表明，超晶格中Si层大部分区域为非晶相，局域微区呈现有序结构，其厚度由1.8—3.2nm变化，SiO2层厚度为4.0nm.并采用多种光谱测量技术，如吸收光谱、光致发光光谱和Raman光谱技术，对该结构的光学性质进行了系统研究.结果表明，随纳米Si层厚度的减小，光学吸收边以及光致荧光峰发生明显蓝移，Raman峰发生展宽，即观测到明显的量
%K 非晶硅／二氧化硅
%K 超晶格
%K 光谱
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=47CCBE99C69FAD7D9CBF2FE869A4D126&yid=9806D0D4EAA9BED3&vid=2A3781E88AB1776F&iid=94C357A881DFC066&sid=CBC69BEA05C12902&eid=92CE31955C2FC520&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=3