PROPERTIES OF a-SiCxNy
反应溅射a-SiCxNy∶H薄膜特性

利用射频反应溅射技术在室温下制备了氢化非晶硅碳氮薄膜(a-SiCxNy∶H)，通过红外透射谱(IR)，光吸收谱［α(λ)］，电子自旋共振谱(ESR)和电导率(σ)等测试手段，研究了薄膜的结构和光电特性.在固定甲烷流量γCH4=3%，氢气流量γH2=12%的情况下，改变氮气流量γN2=(0—14)%，综合研究了暗电导率σd<