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ISSN: 2333-9721
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物理学报 1995

高能重离子注入Si中缺陷的抑制

卢武星,R.J.Schreatelkamp,J.R.Liefting,F.W.Saris

Keywords: 离子注入,硅,缺陷,高能,重离子

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Abstract:

以文献10]中作者系统研究离子注入Si中缺陷形成判据为基础,研究多种高能重离子的注入和退火行为,提出一种简便和有效抑制二次缺陷形成的新方法.

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