%0 Journal Article
%T 高能重离子注入Si中缺陷的抑制
%A 卢武星
%A R.J.Schreatelkamp
%A J.R.Liefting
%A F.W.Saris
%J 物理学报
%D 1995
%I 
%X 以文献10]中作者系统研究离子注入Si中缺陷形成判据为基础,研究多种高能重离子的注入和退火行为,提出一种简便和有效抑制二次缺陷形成的新方法.
%K 离子注入
%K 硅
%K 缺陷
%K 高能
%K 重离子
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=FCAE0A99323261C39A7EB661E207E86A&yid=BBCD5003575B2B5F&vid=1AE5323881A5ECDC&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=C17A97755771D03C&eid=DFBBF6D86DD97199&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=2