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ISSN: 2333-9721
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物理学报  1990 

A STUDY ON THE METASTABLE THERMAL DEFECTS IN REACTIVELY SPUTTERED a-SiGe:H FILMS
反应溅射制备a-SiGe:H薄膜中亚稳态热缺陷的研究

Keywords: 反应溅射,a-SiGe:H,薄膜,热缺陷

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Abstract:

本文通过电导率σ(T)和异质结电容-电压关系(C-V)的测量,研究了反应溅射制备的a-SiGe:H薄膜中亚稳态热缺陷。

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