%0 Journal Article
%T A STUDY ON THE METASTABLE THERMAL DEFECTS IN REACTIVELY SPUTTERED a-SiGe:H FILMS<br>反应溅射制备a-SiGe:H薄膜中亚稳态热缺陷的研究
%A WANG YIN-YUE
%A ZHANG FANG-QING
%A CHEN GUANG-HUA
%A <br>王印月
%A 张仿清
%A 陈光华
%J 物理学报
%D 1990
%I 
%X 本文通过电导率σ(T)和异质结电容-电压关系(C-V)的测量,研究了反应溅射制备的a-SiGe:H薄膜中亚稳态热缺陷。
%K 反应溅射
%K a－SiGe：H
%K 薄膜
%K 热缺陷
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=526D4AD2BBC6013571E82A23A1FF265C&yid=8D39DA2CB9F38FD0&vid=7C3A4C1EE6A45749&iid=F3090AE9B60B7ED1&sid=00B387A522283F93&eid=27B74BA4EDC40A8D&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=1