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ISSN: 2333-9721
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物理学报  1963 

关于拉硅单晶时石英坩埚的沾污过程

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拉制半导体硅单晶时,一般采用石英坩埚作为熔硅的容器。但熔硅会与石英起反应作用,使石英溶入硅熔液中,同时把石英中的杂质带进硅中。Taft和 Horn,Howard及Ransom测定了石英坩埚的溶解速率。他们均假定溶解速率正比于坩埚与熔硅的接触面积(如图1.a)。后来Bradshaw通过实验指出,溶解速率并不是正比于接触面积,而

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