%0 Journal Article
%T 关于拉硅单晶时石英坩埚的沾污过程
%A 吴大勇
%A 张咏紫
%A 莫党
%J 物理学报
%D 1963
%I 
%X 拉制半导体硅单晶时,一般采用石英坩埚作为熔硅的容器。但熔硅会与石英起反应作用,使石英溶入硅熔液中,同时把石英中的杂质带进硅中。Taft和 Horn,Howard及Ransom测定了石英坩埚的溶解速率。他们均假定溶解速率正比于坩埚与熔硅的接触面积(如图1.a)。后来Bradshaw通过实验指出,溶解速率并不是正比于接触面积,而
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=D1D1EB266064F10230229D6C937C62F7&yid=49BEA5698E310F48&vid=2A8D03AD8076A2E3&iid=0B39A22176CE99FB&sid=03A030BB0C519C60&eid=09E495F616948E78&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0