A STUDY OF CONCENTRATION PROFILE OF LOW-MASS IONS IMPLANTED IN METALS BY R. B. S.
背散射方法研究金属中注入轻离子分布

用能量为MeV量级的α粒子背散射方法测定了大剂量N+ (5×1017 atom/cm2,100keV)注入铁膜(厚约4000?)及铁块(工业纯)的注入离子的浓度-深度分布。由于大剂量杂质的注入,使基体背散射谱出现“凹坑”,提出了一种利用“凹坑”计算杂质分布的方法。