%0 Journal Article
%T A STUDY OF CONCENTRATION PROFILE OF LOW-MASS IONS IMPLANTED IN METALS BY R. B. S.<br>背散射方法研究金属中注入轻离子分布
%A QU ZHEN-YUAN
%A MA TIA-LIANG
%A GAO NAI-FEI
%A ZHANG HONG-TAO
%A XIONG JIA-JIONG
%A <br>瞿振元
%A 马铁良
%A 高乃飞
%A 张宏涛
%A 熊家炯
%J 物理学报
%D 1984
%I 
%X 用能量为MeV量级的α粒子背散射方法测定了大剂量N+ (5×1017 atom/cm2,100keV)注入铁膜(厚约4000?)及铁块(工业纯)的注入离子的浓度-深度分布。由于大剂量杂质的注入,使基体背散射谱出现“凹坑”,提出了一种利用“凹坑”计算杂质分布的方法。
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=C0C26D7A3B307A7CB377AAB22CD3A14A&yid=36250D1D6BDC99BD&vid=27746BCEEE58E9DC&iid=59906B3B2830C2C5&sid=FE8339558AD0500C&eid=7C95AAC7652395EE&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0